雷射系統應用
雷射精密加工制程應用
固態雷射與準分子雷射技術之系統產品應用,提供客制整合方案, 應用於雷射精密加工製程。雷射光源之使用技術是需要精密光學系統的設計, 及選擇正確的雷射光源。高穩定高精準的定位平台整合, 系統整合並以最佳化於符合製程的精密雷射加工系統。
機械系統設計/開發
應用軟件控制開發
光學鏡組系統設計/開發
雷射光源整合
高精密定位系統光源整合
製程應用: 準分子雷射回火ELA,DPSS雷射劃片(Laser Cutting, Laser scribing),雷射鑽孔(Laser Drilling), 雷射圖案加工(Laser Patterning),雷射金屬鑽孔,雷射切割(Laser Cutting), 邊緣刪除(Laser Edge Deletion),雷射清潔(Laser Clean),雷射剝離(LLO, Laser Lift-Off, LDB, Laser DeBonding / Laser ablation)
高精密應用產品: FPD面板顯示器(LTPS, SLS, OLED, AMOLED, Micr-LED Display),IGBT,CMOS傳感器, X-Ray Sensor, GaN LED,光伏太陽能(PV Solar),半導體(Semiconductor),電子紙(E Paper)
雷射類型: 紫外光雷射(266nm, 355nm),綠光雷射(532nm),紅光雷射(1064nm),飛秒雷射(Femto laser),皮秒雷射(Pico Laser),碟盤雷射(DISC Laser),光纖雷射(Fiber Laser),準分子雷射(Excimer Laser)
光學系統: 準分子雷射管窗鏡,分光器,OC透鏡,雷射回火窗鏡(Annealing window, Sealing window, Projection window)
以雷射之活性介質(active media)之狀態作分類,分為如下幾種:
氣體雷射: CO2 Laser, HeNe Laser
固態雷射: Ruby Laser, Nd:Yag, Yb:Yag Laser
半導體雷射: 以三五族半導體和二六族半導體製成的雷射 (或可歸類於固態雷射)
液態雷射: Dye Laser 染料雷射
其他: 準分子雷射(EXCIMER Laser, 或可歸類於氣體雷射), 光子晶體雷射(Photonic crystal lasers);X光波段的自由電子雷射(Free electron lasers)
新開發的各種雷射也依其特殊屬性,也另行命名如DISC Laser, Fiber Laser, Femto Laser, Pico Laser
亦依波長稱為:紅光雷射,綠光雷射,紫外線雷射 UV Laser,NUV, DUV, 極紫外光雷射EUV
於高精密高品質應用領域常見的雷射波長:因加工基材的不同可選最適合的雷射光源
DUV: 308nm (XeCl), 248nm (KrF), 193nm (ArF), 157nm (F2), Excimer Laser
EUV: 13.5nm , Extreme Ultraviolet
CO2 Laser: 10640nm, Continue wave
Solide-State Laser: 1064nm, 532nm, 355nm, 266nm, Pulse Laser
Special spec.: 515nm, 343nm
SLS
SPC
PI Cut
Edge Deletion
ITO Patterning
SiN / SiO film
ITO Patterning
Isolation Film deletion
3D Micromachining
Glass Hole Drilling TGV
Laser Annealing
UVSLA / ELA
Laser Lift off
Flexible Display