雷射系統應用

雷射精密加工制程應用

固態雷射與準分子雷射技術之系統產品應用，提供客制整合方案, 應用於雷射精密加工製程。雷射光源之使用技術是需要精密光學系統的設計, 及選擇正確的雷射光源。高穩定高精準的定位平台整合, 系統整合並以最佳化於符合製程的精密雷射加工系統。

  • 機械系統設計/開發

  • 應用軟件控制開發

  • 光學鏡組系統設計/開發

  • 雷射光源整合

  • 高精密定位系統光源整合

製程應用： 準分子雷射回火ELA，DPSS雷射劃片(Laser Cutting, Laser scribing)，雷射鑽孔(Laser Drilling)， 雷射圖案加工(Laser Patterning)，雷射金屬鑽孔，雷射切割(Laser Cutting)， 邊緣刪除(Laser Edge Deletion)，雷射清潔(Laser Clean)，雷射剝離(LLO, Laser Lift-Off, LDB, Laser DeBonding / Laser ablation)

高精密應用產品： FPD面板顯示器(LTPS, SLS, OLED, AMOLED, Micr-LED Display)，IGBT，CMOS傳感器, X-Ray Sensor, GaN LED，光伏太陽能(PV Solar)，半導體(Semiconductor)，電子紙(E Paper)

雷射類型： 紫外光雷射(266nm, 355nm)，綠光雷射(532nm)，紅光雷射(1064nm)，飛秒雷射(Femto laser)，皮秒雷射(Pico Laser)，碟盤雷射（DISC Laser)，光纖雷射(Fiber Laser)，準分子雷射(Excimer Laser)

光學系統： 準分子雷射管窗鏡，分光器，OC透鏡，雷射回火窗鏡（Annealing window, Sealing window, Projection window)

以雷射之活性介質(active media)之狀態作分類，分為如下幾種：

  • 氣體雷射: CO2 Laser, HeNe Laser

  • 固態雷射: Ruby Laser, Nd:Yag, Yb:Yag Laser

  • 半導體雷射: 以三五族半導體和二六族半導體製成的雷射 (或可歸類於固態雷射)

  • 液態雷射: Dye Laser 染料雷射

  • 其他: 準分子雷射(EXCIMER Laser, 或可歸類於氣體雷射), 光子晶體雷射(Photonic crystal lasers)；X光波段的自由電子雷射(Free electron lasers)

新開發的各種雷射也依其特殊屬性，也另行命名如DISC Laser, Fiber Laser, Femto Laser, Pico Laser

亦依波長稱為：紅光雷射，綠光雷射，紫外線雷射 UV Laser，NUV, DUV, 極紫外光雷射EUV

於高精密高品質應用領域常見的雷射波長：因加工基材的不同可選最適合的雷射光源

  • DUV: 308nm (XeCl), 248nm (KrF), 193nm (ArF), 157nm (F2), Excimer Laser

  • EUV: 13.5nm , Extreme Ultraviolet

  • CO2 Laser: 10640nm, Continue wave

  • Solide-State Laser: 1064nm, 532nm, 355nm, 266nm, Pulse Laser

  • Special spec.: 515nm, 343nm